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埋め込み不揮発性メモリ(eNVM)ソリューション
當社はIDMメーカー(*)として蓄積したメモリ開発の知識と経験を活かし、お客様の要望に合わせた幅広い埋め込み不揮発性メモリ(eNVM)ラインナップを提供します。
*IDM (Integrated Device Manufacturer)
半導體の設計から製造まで自社で行う垂直統合型メーカー。
埋め込み不揮発性メモリ(eNVM)ラインナップ
High Density NVM
不揮発性メモリ「NRAM® (注1)」ベースのテクノロジを紹介します。
注1:NRAMは、Nantero, Inc.の登録商標です。
NRAM®(Next Generation Memory)
特徴
- ランダムアクセス
- 低電圧、低消費電力書き換え
- 高い書き換え耐性、高溫でのリテンション耐性
用途
- ウェアラブル、IoT
- 車載(高溫用途)、EEPROM置き換え
High End NVM
ESF3(注2)および、FLOTOX(FLOating gate Tunnel OXide)による當社のテクノロジーソリューションを紹介します。
注2: | ESF3は、SST社の製品名です。
SuperFlash®は、SST社の登録商標です。 This product uses SuperFlash® technology licensed from Silicon Storage Technology, Inc. SuperFlash® is a registered trademark of Silicon Storage Technology, Inc. |
ESF3/FLOTOX
特徴
- 40nmテクノロジでは、市場実績の豊富な高性能、高集積、高信頼性のSST社ESF3を採用
- 55nmはIDM時代から培われた車載実績の豊富なオリジナルの高信頼性FLOTOX Flashを提供
- 100MHz以上の高性能と100Kcycのエンデュランス性能を両立、AECQ-100に対応し、Tj150℃の動作を保証
用途
- 車載、高性能大容量eFlash品
Middle Range NVM
當社のテクノロジーソリュション「Plug-In Flash」を紹介します。
Plug-in Flash (In-House)
特徴
- Plug-Inのコンセプトにより、既存の設計資産を生かしつつフラッシュメモリの混載が可能
- プロセス設計、デバイス設計、回路設計を全體最適化することにより、チップコストを最小化
- 新たに導入した回路技術により、データ読み出し時と、データ書き換え時の消費電力を大幅に削減
用途
- ウェアラブル IoT,民生マイコン
Low End NVM
不揮発性メモリIPについて、當社のテクノロジソリューションを紹介します。
MTP(Multiple Time Programmable)/OTP(One Time Programmable)
特徴
- 標準ロジックプロセスにて製造可能なローコスト不揮発性メモリ
- 3rdベンダーによるIPサポート
用途
- セキュリティ、トリミングデータの格納、小容量プログラムファイルの格納